다음은 X선 회절(XRD)을 사용하여 취성상을 분석하는 구체적인 단계입니다.

샘플 준비

 

샘플 수집: 취성상이 포함된 NVF550 강판 중에서 대표적인 부품을 선정하여 샘플링합니다. 샘플이 재료의 실제 상태를 반영하고 취성 단계가 충분한 영역을 포함할 수 있는지 확인하십시오.

연삭 처리: 채취한 시료를 분쇄도구를 이용하여 점차적으로 미세한 분말로 분쇄합니다. 분쇄 과정 중에 샘플이 오염되지 않도록 주의하십시오. 마노 모르타르와 같은 도구를 사용할 수 있으며 X선이 시료의 결정과 완전히 상호 작용하고 좋은 회절 효과를 얻을 수 있도록 입자 크기가 미크론 수준에 도달할 때까지 분쇄를 계속해야 합니다.

기기 매개변수 설정

 

적절한 X선 소스 선택: 시료의 특성과 분석 요구 사항에 따라 Cu 타겟, Co 타겟 등과 같이 X선을 생성하는 적절한 타겟 물질을 선택합니다. 다양한 타겟 물질은 서로 다른 파장의 X선을 생성하며 이는 위치에 영향을 미칩니다. 그리고 회절 피크의 강도.

스캔 범위 및 단계 크기 결정: 일반적으로 금속 재료의 경우 스캔 범위는 20도에서 100도 사이로 설정할 수 있으며, 단계 크기는 일반적으로 0.02도에서 0.1도 사이입니다. 특정 스캐닝 범위와 단계 크기는 샘플의 특성과 취성 위상 회절 피크의 예상 위치에 따라 적절하게 조정되어 가능한 모든 회절 피크를 완전히 포착할 수 있습니다.

관 전압 및 관 전류 설정: 관전압과 관전류의 크기는 엑스선의 강도와 투과능력에 영향을 줍니다. 일반적으로 관전압은 30kV~60kV 사이에서, 관전류는 20mA~50mA 사이에서 설정할 수 있다. 충분한 강도와 안정성을 갖춘 회절 신호를 얻으려면 특정 장비 및 샘플 조건에 따라 최적화를 수행해야 합니다.

 

 

 

 

 

NV D550 초고일반강도 특성
등급		기계적 성질			샤르피 V 충격 시험
	두께	생산하다	인장	연장	도	에너지 1	에너지 2
NV D550	mm	최소 MPA	Mpa	최소 %	-20	J	J
	t 50보다 작거나 같음	550	670-830	16%		37	55
	50	550	670-830	16%		37	55
	70	550	670-830	16%		37	55

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

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