표면 품질 측면에서
절단 매개변수가 제대로 설정되지 않으면 WEDM은 샘플 표면에 재주조 레이어를 생성합니다. 리캐스트층은 방전가공 과정에서 시료 표면에 녹은 금속이 재용해되어 응고되어 형성된 조직층이다. 이는 WEDM의 고온 용융 공정으로 인해 재료의 일부가 기화되어 녹을 수 있으며, 처리가 완료된 후 이러한 녹은 금속이 시료 표면에 다시 부착될 수 있기 때문입니다.
리캐스트 레이어의 존재는 EBSD 분석에 부정적인 영향을 미칩니다. EBSD 분석은 전자 백-산란 회절의 원리를 기반으로 하여 입자 크기 및 결정 방향과 같은 정보를 결정합니다. 재주조 층은 샘플 표면의 원래 미세 구조를 변경하고 전자 역산란 회절 신호 획득을 방해합니다. 예를 들어 재주조층의 존재로 인해 실제 결정립계가 흐릿해 결정립 크기를 오판하게 될 수도 있고, 결정 방위의 정확한 판단에 영향을 미쳐 획득된 OIM(Orientation Imaging Map)에 편차가 발생할 수도 있다. .

 

처리 비용 측면에서
WEDM 장비는 상대적으로 복잡하며 고주파 펄스 전원 공급 장치 및 작동 유체 순환 시스템과 같은 구성 요소를 갖추어야 합니다. 이러한 장비의 조달 비용은 상대적으로 높으며 장비의 유지 관리 및 운영에도 일정한 비용이 필요합니다. 예를 들어, 고주파 펄스 전원 공급 장치는 오작동할 수 있으며 전문적인 유지 관리가 필요하고 작동 유체를 정기적으로 교체해야 하므로 사용 비용이 증가합니다.
WEDM 가공 중에 소모되는 전극 와이어와 작동 유체도 비용의 일부입니다. 장기간 절단하면 전극 와이어가 마모되어 교체해야 하며 작동 유체도 사용하면서 소모됩니다. 대규모 EBSD 샘플 준비의 경우 이러한 소모품의 누적 비용이 상대적으로 높습니다.

 

 

 

 

 

 

 

 

템퍼링 및 담금질의 BV/EH32 고강도 화학 성분
등급	요소 최대값(%)
	C	시	망	P	S	알	N
BV/EH32	0.18	0.1-0.50	0.90-1.6	0.035	0.035	0.015
	NB	V	티	구리	Cr	니	모
	0.02-0.05	0.05-0.10	0.02	0.35	0.2	0.4	0.08

 

 

가공 정밀 제어 측면에서
WEDM은 상대적으로 높은 절단 정밀도를 달성하고 상대적으로 작은 절단 간격(일반적으로 약 0.1 - 0.3 mm)을 얻을 수 있지만 이 정밀도를 유지하려면 높은 작동 요구 사항이 필요합니다. 절단 공정은 방전 매개변수(방전 에너지, 방전 주파수 등 포함), 전극 와이어의 장력, 와이어 공급 속도 등 다양한 요인의 영향을 받습니다.
예를 들어 방전 에너지가 너무 크면 절단 간격이 예상 범위를 초과하거나 샘플 표면에 열 영향 영역이 더 많이 생성되어 EBSD 분석 결과에 영향을 미칠 수 있습니다. 전극 와이어의 장력이 불안정하면 절단 경로에 편차가 발생할 수 있습니다. 특정 각도나 곡선으로 정확하게 절단해야 하는 것과 같이 형상 정밀도에 대한 요구 사항이 높은 일부 EBSD 샘플의 경우 처리 요구 사항이 충족되지 않을 수 있습니다.

 

 

 

 

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